Madala süsinikusisaldusega ferrosilikoon

Olemasolev spetsiaalse ferrosilikooni või kõrge puhtusastmega ferrosilikooni tootmismeetod on sula ferrosiliikoon süstimine kanalisatsiooni ja seejärel kloori sisestamine ferrosäni, et vähendada süsiniku sisaldust ferrosiinis alla 0.{{3} }4%, titaan kuni 0.03-0,05% ja kaltsium kuni 0.05-0,07% kloori reageerimise tõttu süsiniku, titaani, kaltsiumi ja muude lisanditega. Seda ferrosäni ei saa aga kasutada kõrgekvaliteedilise orienteerimata räniterase tootmiseks, kuna süsinik on üks peamisi külmvaltsitud orienteerimata räniteraslehtede elektromagnetilisi omadusi mõjutavaid lisandeid. Kui süsinikusisaldus on liiga kõrge, on räniterases lehtede tootmisel räniterases sisalduva süsinikusisalduse vähendamiseks vaja aeglustada ühiku kiirust järgnevas vaakumahju dekarburiseerimise lõõmutamise protsessis ja pikendada dekarburiseerimise lõõmutamist. aega, suurendades seeläbi tootmiskulusid ja mõjutades majanduslikku kasu. Seega, mida madalam on madala C FeSi süsinikusisaldus, seda parem.